真空鍍又稱真空鍍金、真空鍍膜,指的是利用物理過程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移,將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。它的作用是可以使一些有特殊性能(強(qiáng)度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的基材上,使得材料具有更好的性能。 真空鍍的基本方法分為真空蒸發(fā)和離子鍍其中離子鍍分為:空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍。
真空鍍簡稱PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理氣相沉積)的縮寫,是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。
增強(qiáng)型磁控陰極弧:陰極弧技術(shù)是在真空條件下,通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài),從而完成薄膜材料的沉積。增強(qiáng)型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用,將靶材表面的電弧加以有效地控制,使材料的離化率更高,薄膜性能更加優(yōu)異。
過濾陰極弧:過濾陰極電弧(FCA )配有高效的電磁過濾系統(tǒng),可將離子源產(chǎn)生的等離子體中的宏觀粒子、離子團(tuán)過濾干凈,經(jīng)過磁過濾后沉積粒子的離化率為100%,并且可以過濾掉大顆粒,因此制備的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蝕性能好,與機(jī)體的結(jié)合力很強(qiáng)。
磁控濺射:在真空環(huán)境下,通過電壓和磁場的共同作用,以被離化的惰性氣體離子對靶材進(jìn)行轟擊,致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜。根據(jù)使用的電離電源的不同,導(dǎo)體和非導(dǎo)體材料均可作為靶材被濺射。
離子束DLC:碳?xì)錃怏w在離子源中被離化成等離子體,在電磁場的共同作用下,離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調(diào)整加在等離子體上的電壓來控制。碳?xì)潆x子束被引到基片上,沉積速度與離子電流密度成正比。星弧涂層的離子束源采用高電壓,因而離子能量更大,使得薄膜與基片結(jié)合力很好;離子電流更大,使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術(shù)的主要優(yōu)點(diǎn)在于可沉積超薄及多層結(jié)構(gòu),工藝控制精度可達(dá)幾個埃,并可將工藝過程中的顆料污染所帶來的缺陷降至最小。
其中應(yīng)用最為廣泛的真空鍍工藝就是磁控濺射,表面不僅光滑耐磨而且環(huán)保容易操作,青島地區(qū)真空鍍做的比較全面的比較專業(yè)的青島大東電子,大家有機(jī)會可以去學(xué)習(xí)參觀,先進(jìn)的設(shè)備跟工藝帶來科技改變工業(yè)的震撼。
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